美商務部工業(yè)和安全局擬將26家中方實體移出UVL

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“據美國商務部工業(yè)與安全局官方網站，將26家中國實體移出UVL（未經核實清單）清單?！?/strong>

圖源：USBIS

美國當地時間12月15日，據聯邦公報官網訊，美國《聯邦公報》計劃于當地時間16日發(fā)布一份由美國商務部工業(yè)和安全局（The Bureau of Industry and Security，BIS）擬定的UVL清單（Unverified list，未經核實清單）。清單中包含的26家中國實體或將從UVL中移除。

IPRdaily將持續(xù)關注美國BIS即將正式發(fā)布的UVL。

擬定的26家中方實體包括：

1. Beijing Naura Magnetoelectric Technology Co., Ltd.;

2. CCIC Southern Electronic Product Testing Co., Ltd.;

3. Center for High Pressure Science and Technology Advanced Research; 

4. Changchun National Extreme Precision Optics Co., Ltd.;

5. Chinese Academy of Geological Sciences, Institute of Mineral Resources;

6. Chinese Academy of Science (CAS) Institute of Chemistry;

7. Dongguan Durun Optical Technology Co., Ltd.;

8. Foshan Huaguo Optical Co., Ltd.;

9. Guangdong University of Technology;

10. Guangxi Intai Technology Co., Ltd.;

11. Guangxi Yuchai Machinery Co., Ltd.;

12. Guangzhou Hymson Laser Technology Co., Ltd.;

13. Heshan Deren Electronic Technology Co., Ltd.;

14. Hubei Longchang Optical Co., Ltd.;

15. Hubei Sinophorus Electronic Materials Co., Ltd.;

16. Kunshan Heng Rui Cheng Industrial Technology;

17. Shanghai Fansheng Optoelectronic Science & Technology Co. Ltd.;

18. Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd.;

19. ShanghaiTech University;

20. Southern University of Science and Technology, Department of Mechanical and Energy Engineering;

21. University of Chinese Academy of Sciences, School of Chemical Sciences;

22. University of Shanghai for Science and Technology;

23. Vital Advanced Materials Co., Ltd.;

24. Wuhan Juhere Photonic Tech Co., Ltd.;

25. Wuxi Biologics (Shanghai) Co., Ltd.;

26. Zhongshan Thincloud Optics Co., Ltd.;

（原標題：美商務部工業(yè)和安全局擬將26家中方實體移出UVL）

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來源：IPtoday綜合USBIS

編譯：IP Today-何舒敏

編輯：IPRdaily趙甄          校對：IPRdaily縱橫君

注：原文鏈接：美商務部工業(yè)和安全局擬將26家中方實體移出UVL（點擊標題查看原文）

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